專業設備HF800

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更新時間：2024-08-06 14:10:26瀏覽次數：73次

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熱絲CVD金剛石生長爐

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廊坊西波爾鉆石技術有限公司

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產品簡介

該熱絲化學氣相沉積設備主要用于CVD金剛石厚膜、CVD金剛石涂層、石墨烯、多晶硅薄膜、SiCN薄膜、氫化硅薄膜以及其他化學氣相沉積薄膜材料的大批量生產，其特點如下：1、采用大面積熱絲陣列平行排布，沉積面積可達到200mm*200mm，并且厚度均勻一致

詳細介紹

該熱絲化學氣相沉積設備主要用于CVD金剛石厚膜、CVD金剛石涂層、石墨烯、多晶硅薄膜、SiCN薄膜、氫化硅薄膜以及其他化學氣相沉積薄膜材料的大批量生產，其特點如下：

1、采用大面積熱絲陣列平行排布，沉積面積可達到200mm*200mm，并且厚度均勻一致；

2、采用逆變直流電源加熱，電壓輸出穩定，穩定度優于0.1%，保證沉積表面溫度波動小；

3、采用的機械制造技術和安全可靠的控制系統，其中基片臺升降精度優于0.1mm，基片臺旋轉無級調速，流量計控制精度優于0.5%，保證設備長期穩定工作。

關鍵詞：流量計

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