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銷售光譜橢偏儀價格

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地武漢市

更新時間:2024-12-16 02:50:03瀏覽次數(shù):289次

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Mapping系列光譜橢偏儀是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,配置全自動Mapping運動機構,通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)薄膜全基片的膜厚及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征。

 

一、概述

     ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,配置全自動Mapping測量模塊,通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征和分析。

■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案;

■ 支持產(chǎn)品設計以及功能模塊定制化,一鍵繪制測量;

■ 配置Mapping模塊,全基片自定義多點定位測量能力;

■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫,保證強大數(shù)據(jù)分析能力。

二、產(chǎn)品特點

■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);

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■ 高精度旋轉補償器調(diào)制、PCRSA配置,實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集;

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■ 具備全基片自定義多點自動定位測量能力,提供全面膜厚檢測分析報告;

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■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料。

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三、產(chǎn)品應用

      ME-Mapping廣泛應用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。

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可選配件

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ME-L.png

真空泵透射吸附組件



技術參數(shù)
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