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BE-AC10系列腐蝕清洗設備

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產品簡介

用于硅半導體MEMS工藝壓力傳感器硅杯的腐蝕與清洗工藝,其采用的工藝,特別適合大晶圓規模化生產。

詳細介紹

應用場景:

      用于硅半導體MEMS工藝壓力傳感器硅杯的腐蝕與清洗工藝。

主要特點:

                • 設備由腐蝕和清洗兩部分組成,包括設備主體、腐蝕槽、PID恒溫系統、PLC工控系統、清洗槽、兆聲清洗及快排系統等部分。

                • 腐蝕液槽外循環,槽內均勻噴射的流體模式,腐蝕反應均勻性更好。

                • 槽內直接測溫,直接加熱的方式,溫度反應更靈敏,腐蝕溫度更均勻。

                • 自動程序噴淋清洗,兆聲助洗,硅片清洗效果更好

                • 所有程序可設定運行,更精準,更可靠,更省時省力。

                • 硅片尺寸可定制:3吋、4吋、5吋、6吋、8吋、10吋、12吋


注:可根據用戶使用條件定制需要的規格,有關技術指標請索取產品詳細說明

關鍵詞:壓力傳感器 PLC
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