CMSD2000納米二氧化硅改性丙烯酸樹脂研磨分散機
【簡單介紹】
新技術 采用國x先x的受控切割技術,將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內,滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
【詳細說明】
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納米二氧化硅改性
近年研發的丙烯酸樹脂/納米SiO2復合材料不但保持了有機高分子乳液成膜性好、涂膜透明性高和優良的柔韌性,而且具有無機物的不燃性、耐摩擦性、耐溶劑性、耐候性、硬度高、耐熱性和很強的紫外線屏蔽作用等優點
使用有機*對納米SiO2進行表面改性,然后加入到丙烯酸酯類單體中并高速剪切分散,在引發劑作用下利用原位聚合法和共混法合成了納米SiO2/水性丙烯酸樹脂復合材料,納米材料的加入,使聚丙烯酸酯分子鏈之間增加了交聯,內部形成的網狀結構使其力學性能有所提高,其耐熱性與防水性得到提高;此外,隨著納米SiO2含量的增加,由于Si-O-Si結構的生成,使其內部形成的自由體積增加,密度下降,硬度、拉伸強度都隨之提高,而吸水率、斷裂伸長率隨之減少,但當納米SiO2用量高于3%時,拉伸強度與吸水率開始下降。
使用溶膠一凝膠法制備納米SiO2粒子,并用納米SiO2粒子與丙烯酸樹脂進行復合,制備出的納米SiO2改性丙烯酸樹脂涂飾劑,其SiO2粒子的分散性較好,成膜具有增強、增韌效果;涂飾后的革樣在不影響其它性能的前提下,透氣性和透水汽性得到了較大的提高。
利用有機氟單體、有機硅單體對傳統的丙烯酸樹脂進行改性、合成了氟硅改性丙烯酸樹脂,使其具有低表面能性能,以此為成膜物質,通過添加各種微米級顏填料、納米SiO2以及各種助劑,制備出了具有微米—納米表面結構的無毒疏水海洋防污涂料。納米SiO2的加入可以在表面形成微納米結構從而降低涂料表面能,增強防污涂料的防污性能。顧敏豪等
通過有機*處理納米二氧化硅表面,減少了改性納米二氧化硅的團聚,提高其在涂料中的分散性。將所得改性納米二氧化硅和丙烯酸樹脂混合制備不銹鋼保護用涂料,獲得了具有高硬度、高耐污性能、耐酸耐堿性能和耐鹽霧性能優異的納米復合涂料,提高了不銹鋼的使用壽命和使用范圍,具有很好的經濟效益和社會效應。
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采用原位聚合法成功制備了聚丙烯酸酯/納米SiO2有機-無機復合壓敏膠乳液,納米SiO2的引入同時提高了聚丙烯酸酯乳液的內聚力和剝離強度,可制得初粘力大于20#球,原粘力大于100h,180°剝離強度達到11N/25mm以上的高性能乳液型壓敏膠。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質等功能,設備轉速可達14000rpm,是目前普通設備轉速的4-5倍。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。
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研磨分散機的特點:
1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5、 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
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