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納米級二氧化矽（Silica fiber）是由硅酸鈉，也稱水玻璃構成。純硅酸鈉是一種白色粉末，經過熔融和加工后，制成很細的弦絲或纖維。納米級二氧化矽矽有下列幾種主要應用；1.用作保溫材料；2.遠距離通信的光纖；3.磨擦襯材料；4.制作濕網和加強材料。

納米級二氧化矽有下列幾個方面的主要應用：

1.由于它高溫時和大多礦物及有機酸沒有反應和具有高熱阻，故常用作航天，汽車等方面的保溫材料。它能在1000度C長時保溫而不發生變化。

2.用來制造光通信的纖維，它的傳輸率高，輸送得遠。常用在遠距離通信上。在光學方面的其它應用還包括，手術和傳感器成像。如內窺鏡就是使用二氧化硅纖維把手術時體內的情況傳送出來的。

3.用旋轉方法生產二氧化硅酸纖維，它可用作摩擦襯材料。

4.用來制造濕網，過濾襯布和加強材料。

上海依肯研發的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

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CMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續24小時不停機運行。

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的特點：

更穩定 采用優化設計理念，將先x的技術與創x的思維有效融合，并體現在具體的設備結構設計中，為設備穩定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用先x的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

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研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

設備核心參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到zui大允許量的10%

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