零階波片超聲波清洗機(jī)VGT-1009FTA
零階波片：
是一種光學(xué)元件，由兩塊晶體組成，晶體的快軸互相垂直，其各厚度決定了相位延遲。
零階波片的應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，包括但不限于醫(yī)療衛(wèi)生、環(huán)保、化工和電子行業(yè)。它們常用于高功率激光應(yīng)用。能夠提供穩(wěn)定的相位延遲效果，確保光學(xué)系統(tǒng)的性能和穩(wěn)定性?。
零階波片產(chǎn)生的雜質(zhì)來源與影響：
1、零階波片在生產(chǎn)過程中，可能由于原材料純度、制備過程玷污或人為摻入等原因，導(dǎo)致雜質(zhì)殘留。
2、這些雜質(zhì)會(huì)對半導(dǎo)體的物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)產(chǎn)生決定性影響，進(jìn)而影響波片的性能。
3、雜質(zhì)可能以替位式或間隙式填空在半導(dǎo)體晶格中。
4、不同類型的雜質(zhì)對波片性能的影響程度不同。
零階波片可以用超聲波清洗機(jī)清洗嗎？
超聲波清洗通過高頻振動(dòng)（一秒可達(dá)3萬次）在液體中產(chǎn)生空化效應(yīng)，有效去除物體表面的污垢和雜質(zhì)（使用注意事項(xiàng)如下）。
1、清洗時(shí)間需控制，避免長時(shí)間清洗導(dǎo)致波片鍍膜脫落。
2、清洗液需根據(jù)零階波片的材質(zhì)和雜質(zhì)類型選擇。
3、清洗后需確保波片WAN全干燥，避免殘留水分對波片造成損害。
了解我司威固特VGT-1009FTA自動(dòng)智能式超聲波清洗干燥一體機(jī)：
此清洗設(shè)備能做到自動(dòng)化清洗及烘干，共有10個(gè)功能位，配置有拋動(dòng)系統(tǒng)、循環(huán)過濾系統(tǒng)、自動(dòng)恒溫系統(tǒng)、超聲波清洗系統(tǒng)、定時(shí)系統(tǒng)、儲(chǔ)液箱系統(tǒng)、溢流系統(tǒng)、自動(dòng)智能式上下料系統(tǒng)、自動(dòng)智能式機(jī)械手系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、真空烘干系統(tǒng)、頂部FFU系統(tǒng)等。
設(shè)備采用環(huán)保型水溶劑洗滌、純水漂洗、噴淋漂洗及真空烘干，為環(huán)保型自動(dòng)智能式清洗系統(tǒng)。對于零階波片的清洗顧慮“清洗液"的使用可放心。
另對于清洗時(shí)間的控制也可做到。我司設(shè)備節(jié)拍 5～50 分鐘(可依據(jù)生產(chǎn)進(jìn)度調(diào)節(jié)清洗節(jié)拍、亦可依據(jù)不同產(chǎn)品調(diào)節(jié)清洗節(jié)拍)，清洗時(shí)間可設(shè)置、可調(diào)整。
VGT-1009FTA自動(dòng)智能式超聲波清洗干燥一體機(jī)的槽體結(jié)構(gòu)、儲(chǔ)液箱、過濾循環(huán)系統(tǒng)、慢拉脫水槽也可避免零階波片擔(dān)心的弊端：
槽體結(jié)構(gòu)：
1、每槽設(shè)四面溢流口，溢水槽寬35mm，各槽皆為獨(dú)立循環(huán)槽，由循環(huán)泵將洗劑由儲(chǔ)液箱抽出經(jīng)過濾后再運(yùn)回清洗槽，即子母槽循環(huán)。
2、設(shè)置獨(dú)立循環(huán)過濾系統(tǒng)。
3、每槽獨(dú)立進(jìn)水、排水，各槽底部設(shè)排液閥且互相串聯(lián)至總排管。
4、設(shè)有加熱系統(tǒng)，槽內(nèi)設(shè)溫度感應(yīng)器，溫控范圍：RT-100℃。
儲(chǔ)液箱：
1、由隔板分成兩腔，分油后的清潔溶液經(jīng)循環(huán)泵重新抽入清洗槽，實(shí)現(xiàn)自我循環(huán)，提高溶液的利用率，而分離后的油排放到總排管。
2、設(shè)市水進(jìn)口，可分別接至各洗槽及儲(chǔ)液箱。
3、配不銹鋼加熱管，功率3KW，防干燒。
4、設(shè)下限液位開關(guān)，水位低時(shí)自動(dòng)聲光報(bào)警，報(bào)警器串聯(lián)。
過濾循環(huán)系統(tǒng)：
1、泵前加可拆卸式過濾篩網(wǎng)，泵后安裝過濾器。
2、過濾器前裝水壓力表一只，提示需更換或清洗過濾器。
慢拉脫水槽：
1、槽面設(shè)齒狀溢流結(jié)構(gòu)，純水由純水預(yù)熱箱進(jìn)入。槽外貼保溫棉厚10mm。
2、槽體設(shè)“OMRON"數(shù)顯溫控系統(tǒng)，檢測槽內(nèi)工作溫度，溫控范圍：常溫-120℃。
3、槽體上部設(shè)抽風(fēng)小孔，將溢出的水蒸汽抽走，防止水氣再次附著于提出的波片上。
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