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山東安尼麥特儀器有限公司


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AT-XTB-1050A 狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌其他品牌

廠(chǎng)商性質(zhì)生產(chǎn)商

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

AT-XTB-1050A 狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī),本機(jī)主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)的專(zhuān)用裝置,同時(shí)也可以用于其他類(lèi)似材料的涂布。

詳細(xì)介紹

AT-XTB-1050A 狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)簡(jiǎn)單介紹:

狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī),本機(jī)主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)的專(zhuān)用裝置,同時(shí)也可以用于其他類(lèi)似材料的涂布。本涂布試驗(yàn)機(jī),底板采用微孔陶瓷吸附平臺(tái),同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭,通過(guò)進(jìn)料壓力,狹縫寬度調(diào)節(jié),以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度,同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng),大大提高了涂布精度與均勻性。應(yīng)用場(chǎng)景:針對(duì)微米級(jí)特別是納米及亞微米級(jí)功能性涂層的涂布試驗(yàn)、墨水調(diào)試、工藝研究、小規(guī)模制樣研發(fā)等。

涉及行業(yè):包括水凝膠、液態(tài)金屬、智能包裝材料、光電材料、光刻膠、功能涂層、微電子及半導(dǎo)體封裝等大面積涂布制備,以及氫燃料電池膜電極、電解水制氫膜電極、鋰電池、各種活性催化劑、異質(zhì)結(jié)太陽(yáng)能電池、薄膜太陽(yáng)能電池、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、有機(jī)太陽(yáng)能電池、OLED柔性穿戴器件、有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管,導(dǎo)電聚合物,納米線(xiàn)和納米管,二維材料,有機(jī)發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管、鈣鈦礦光伏電池、鋰離子電池的電解質(zhì)和電極、染色敏感性太陽(yáng)能電池、電子皮膚等器件的制備。

由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī),受到刮刀調(diào)節(jié),底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級(jí)膜,狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī),底板采用檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái),同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭,通過(guò)進(jìn)料壓力,狹縫寬度調(diào)節(jié),以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度,同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng),大大提高了涂布精度與均勻性。在國(guó)內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用。

AT-XTB-1050A 狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)主要技術(shù)參數(shù) 

1.狹縫擠出頭材質(zhì):不銹鋼

2.狹縫擠出頭涂布寬度:10-50mm

3.狹縫擠出墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊片套裝:5 個(gè) 50毫米寬墊片或5 個(gè) 25毫米寬的墊片

4.電熱板溫度:120°C

5.行程長(zhǎng)度:10-100mm

6.平臺(tái)速度:100 μm.s-1

7.平臺(tái)速度:50 mm s - 1

8.注射器速度:12 μm.s-1

9.注射速度:5 mm.s-1

10.涂布頭與基片之間活動(dòng)距離:13 mm

11.管道和接頭材質(zhì):聚四氟乙烯管,高密度PP魯爾接口鎖定連接器、不銹鋼魯爾接口連接器至螺紋連接件

12.電源參數(shù):100 - 240 V 50Hz

13.尺寸規(guī)格:380 mm x 330 mm x 220 mm

14.重量:30kg 

產(chǎn)品特點(diǎn)

1.集成度高-可以通過(guò)將涂布機(jī)集成到一個(gè)在線(xiàn)系統(tǒng)中,以達(dá)到提升產(chǎn)量、大幅度降低薄膜電子設(shè)備的整體生產(chǎn)成本。

2.簡(jiǎn)單可靠—狹縫擠出式涂布是一種制造薄濕膜片的技術(shù),多米長(zhǎng)度涂層厚度變化小于2%。涂層厚度是通過(guò)改變?nèi)芤毫髁?、基片速度進(jìn)行控制。通過(guò)對(duì)幾個(gè)不同幾何參數(shù)的設(shè)置可以降低涂層缺陷的機(jī)率(不改變涂層厚度)。

3.適合研究領(lǐng)域應(yīng)用—盡管狹縫擠出式涂布是一項(xiàng)非常強(qiáng)大的技術(shù),但在薄膜電子應(yīng)用領(lǐng)域的研究和開(kāi)發(fā)目前非常有限。因?yàn)樗饕且豁?xiàng)工業(yè)技術(shù),即使系統(tǒng)價(jià)格也很高,因?yàn)楠M縫擠出式涂布機(jī)的制造商定位的是工業(yè)領(lǐng)域而非學(xué)術(shù)界。此外,這些常規(guī)的涂布系統(tǒng)通常很大、很復(fù)雜,對(duì)于剛剛開(kāi)始沉積薄膜開(kāi)發(fā)所需的處理技術(shù)的科研人員來(lái)說(shuō)并不適合。狹縫擠出式涂布機(jī)形體小巧,操作方便,適合在實(shí)驗(yàn)室使用,這使科研人員在實(shí)驗(yàn)室中使用狹縫擠出式涂布機(jī)成為可能,并使科研人員能夠優(yōu)化溶劑配方和工藝參數(shù)—而不需要大量的打印運(yùn)行。狹縫擠出式涂布將有助于研究人員確保他們的研究結(jié)果在實(shí)際大規(guī)模應(yīng)用中的落地。

4.膜片厚度可控- 狹縫擠出式涂布是一種前測(cè)量涂層技術(shù),濕膜沉積的厚度僅取決于溶液流量、底片速度和涂層寬度。當(dāng)把溶液濃度和材料密度考慮在內(nèi),就有可能確定干膜厚度.

5. 無(wú)缺陷涂層 - 狹縫擠出涂布依賴(lài)于穩(wěn)定的涂層珠的形成。這個(gè)珠由上游和下游的半月面組成,需要固定在狹縫擠出涂布頭的邊緣。通過(guò)來(lái)自平衡涂布頭的流量和基片表面的粘性流,這個(gè)珠可以穩(wěn)定下來(lái)。用戶(hù)可以改變各種參數(shù),來(lái)改變這兩個(gè)相互競(jìng)爭(zhēng)的流—這包括溶液流量、底片速度,涂布頭高度,溶液潤(rùn)濕度和狹縫擠出頭通道厚度。這可以有多種方式,在穩(wěn)定的涂層加工窗口可以應(yīng)用多種方式,從而獲得無(wú)缺陷的膜片。



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