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健實（北京）分析儀器有限公司
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ICP7800型金屬硅、工業硅檢測專用儀，具有突出的抗干擾和分析檢測性能，應用于研發、檢測等分析需求，可方便進行定性、半定量和精確定量分析，是常量、微量和痕量無機元素同時分析的理想儀器。
1. 應用范圍
ICP7800型金屬硅、工業硅檢測專用儀，具有突出的抗干擾和分析檢測性能，應用于研發、檢測等分析需求，可方便進行定性、半定量和精確定量分析，是常量、微量和痕量無機元素同時分析的理想儀器。
2. 工作環境
電壓：220V AC±10%MKJ
室溫：環境溫度（10-30
相對濕度：（20-80）%RH
3. 金屬硅、工業硅檢測專用儀技術規格
3.1. 等離子體射頻源：
3.1.1：全數字控制的雙電源設計射頻電源，更寬功率范圍500-1600W，功率可調，具有更強的樣品適應性；
3.1.2：自激式RF射頻發生器：自激式電源匹配速度快，功率負載能力強，可以直接分析99.9%的甲苯樣品。自動調諧，水冷散熱，適應復雜樣品分析功率切換，無運動部件，抗震抗干擾，更加可靠；
3.1.3：LOW模式：提供500W超低功率待機，降低氬氣消耗50%以上，待機時氬氣用量≤5L/min；
3.1.4：等離子體觀測方式：可配置軸向、徑向、雙向和同時雙向四種觀測模式。垂直矩管可避免高鹽沉積，延長炬管使用壽命，降低炬管耗材支出。軸向觀測使用金屬冷錐去除尾焰，獲得較高的靈敏度，無需配置空氣壓縮機，節省外部配件及消耗。徑向觀測的等離子觀測位置可調，針對不同元素的分析需求，具有更強的抗干擾的能力；
3.1.5：智能衰減：具有軸向衰減和徑向衰減功能，可衰減100倍以內濃度的樣品，使得樣品高含量元素，能夠一次分析完成，不需要反復稀釋，降低樣品前處理難度，支持簡化分析；
3.1.6：RF射頻頻率：27.12MHz，耦合效率大于80%；
3.1.7：RF功率穩定性: ≤0.1%；RF頻率穩定性：≤0.01%。
3.2. 光學系統：
3.2.1：恒溫三維光學系統，反射次數少，光能量損失低。所有光學元件均密封于熱平衡光室中，主機與光室熱隔離設計，更好的抵御外界環境溫度變化。光室：精密恒溫36℃±0.1℃，驅氬氣；
3.2.2：穩定高效的全固定中階梯光柵分光系統，無運動部件，抗震強，穩定可靠；
3.2.3：波長范圍：165-900nm，全波長覆蓋；
3.2.4：單色器：焦距：400mm，全反射成像光路，石英棱鏡二維色散系統；
3.2.5：中階梯光柵：53.6L/mm，63.5度閃耀，刻數越多，分辨率越高；
3.2.6：波長校正: 每次點火，僅用Ar譜線，自動進行光譜位置校正，保證分析波長的正確性，無須波長校正溶液；
3.2.7：全譜實時校準技術（TARC）：利用無干擾的氖特征譜線，對光譜的細微偏移進行實時校正，實現光譜的優積分，確保長期穩定性，良好消除光譜漂移對于測量的影響；
3.2.8：吹掃型光室：對189nm以下波長測定，選擇氬氣進行光路吹掃，無需使用真空泵，避免真空返油，污染光室；
3.2.9：雜散光：≤2.0mg/L（10000mg/L Ca溶液在As 188.980nm處測定）；
3.2.10：光學分辨率（FWHM）：≤7pm @200 nm（分辨率和檢出限須在相同條件獲得）；
3.2.11：可擴展深紫外Cl/Br分析功能：雙光柵設計，使得光譜分析下限達到130nm深紫外區域。
3.3. 檢測器：像元級制冷的專有大面陣ECCD檢測器
3.3.1：檢測單元：1024*1024像素大面陣CCD檢測器，一次曝光；
3.3.2：成像尺寸：25.4mm×25.4 mm大面陣成像感光單元，采用24×24um大像元，帶來高靈敏度的響應，整體面幅大，能夠在高分辨率的同時，獲得更寬的光譜范圍；
3.3.3：像元級制冷：封裝在傳感器內部的TEC制冷，直接作用像元，制冷溫度大于-10℃，有效防止CCD表面冷凝，無需氣體吹掃保護；
3.3.4：防飽和溢出：針對每一個像素進行背泄式防溢出保護設計，消除譜線飽和溢出問題，無需擔心譜線飽和對鄰近譜線的影響；
3.3.5：智能積分設計：信號背景同步采集，曝光時間取決于譜線的光強，自動計算譜線曝光時間，同時以信噪比獲得高強度信號和弱信號，拓寬的動態范圍，使高低含量元素可以同時檢測，避免試樣反復稀釋；
3.3.6：檢測器表面無任何光轉換化學涂膜，不會因為涂層老化而導致檢測器損壞更換。
3.4. 樣品導入系統：
3.4.1：進樣系統：標配石英同心霧化器、石英旋流霧化室、可拆卸式炬管；
3.4.2：可選配氬氣在線稀釋，高精度MFC控制氬氣高效稀釋10% 以上的高鹽樣品，直接進樣；
3.4.4：可選配耐高鹽或耐HF進樣系統、有機進樣系統和氫化物發生器；
3.4.5：蠕動泵：12滾輪，4通道蠕動泵，泵速0-125rpm連續自動可調。確保穩定進樣的同時，可支持進樣管、內標管、廢液管和輔助試劑進樣管（氫化物發生器）同時運行，有利于復雜樣品分析；
3.4.6：氣路控制：采用精密質量流量控制器控制多路氣體流量，最多可控制五路，包括霧化氣、輔助氣、冷卻氣和可擴展的附加氣體（O2和Ar），精度0.01L/min。
3.5. 軟件性能：
3.5.1：圖形化操作界面，軟件操作方便、直觀，具有定性、半定量、定量分析功能；
3.5.2：基于分類和版本的方法庫管理軟件，便于方法的管理、維護和傳承；內置部分標準方法，有助于提高分析效率；
3.5.3：具有同時記錄所有元素譜線全譜數據采集功能，數據可安全存儲，支持分析數據保存和檢索功能，方便日后再分析；
3.5.4：具有50000條以上的譜線庫，每條譜線至少可以選擇30個象素點進行測量；
3.5.5：具有全譜采集功能，軟件上可直接獲取完整全譜圖，了解樣品光譜及光譜干擾狀態；
3.5.6：具有多種干擾校正方法和實時背景扣除功能：如標準比較法、內標法、干擾元素校正系數法（IEC）、標準加入曲線法等，豐富了用戶多種分析研究的手段；
3.5.7：具有儀器校準功能，支持炬管準直、光源優化等功能，方便用戶日常維護；具有可視化的儀器運行狀態監控；
3.5.8：具有登錄口令保護，多級操作權限設置和網絡安全管理，歷史記錄保存；
3.5.9：具有可視化炬焰觀測模塊；
3.5.10：同時具有中英文版本軟件；
3.5.11：具有網絡遠程服務功能，自帶遠程服務助手，遠程診斷，4G網絡數據連接技術服務部門對于儀器實現遠程診斷維修；
3.5.12：軟件設計全面符合電子簽名管理的21 CFR Part 11管理法規，軟件具有三級管理權限和審計追蹤功能，符合3Q認證等法規要求；
3.5.13：可集成自動化分析儀器平臺、在線分析儀器平臺的軟件操作。
3.6. 分析性能：
3.6.1：分析速度：約每分鐘200條譜線；
3.6.2：樣品消耗量：僅需2ml；
3.6.3：測定譜線的線性動態范圍：≥105（以Mn257.6nm 來測定，相關系數≥0.999）；
3.6.4：精密度：測定1ppm或10ppm多元素混合標準溶液，重復測定十次的RSD≤0.5%；
3.6.5：穩定性：測定1ppm或10ppm多元素混合標準溶液， 8小時的長時間穩定性RSD≤1%；
3.6.6：檢出限：(單位ug/L，按JJG768-2005規定的元素)；
Zn213.856 | Ni231.604 | Mn257.610 | Cr267.716 | Cu324.754 | Ba455.403 |
0.5 | 1 | 0.5 | 1 | 1 | 0.1 |
3.6.7：可對分析元素的任何一條譜線進行定性、半定量和定量分析，支持內標法、標準加入法、干擾元素校正等方法；
3.6.8：預熱時間：從待機狀態到等離子體點燃時間小于5分鐘。
3.7. 儀器接口（含聯用分析軟件）：
3.7.1可實現自動化消解樣品處理工作站聯用(消解系統采用石墨消解電熱模式，實現消解、定容、進樣自動化操作，支持48位以上樣品同時處理）；
3.7.2具有有機樣品直接進樣分析系統接口（提供樣品制冷功能，溫度小于-15攝氏度以下）；
3.7.3具有在線消解模塊接口（支持在線全自動電熱消解和濃度控制、進樣管路自動清洗功能）；
3.7.4具有在線氫化物發生分析系統接口（支持反應液體自動添加和濃度控制、進樣管路自動清洗功能）；
3.7.5可連接離子交換工作站進行價態分析或低濃度富集高基體去除的分析；
3.7.6可連接自動進樣器進行分析（支持樣品位240以上可配置）。
4附件系統：
4.1計算機系統
4GB內存，500G硬盤，配DVD和鍵盤鼠標
4.2冷卻循環水系統
制冷量1490W，溫度范圍5-35℃
4.3激光打印機
黑白激光打印機
4.4單相交流穩壓器
10KVA，精度1%，輸入電壓160V-280V，輸出電壓220v
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