ETSA-300氣浮平臺(tái)
說(shuō)明:
1.氣浮平臺(tái)克服了傳統(tǒng)機(jī)械定位臺(tái)行程短,響應(yīng)滯后大,摩擦阻力等不足,實(shí)現(xiàn)了長(zhǎng)行程高精度與高速定位功能,在半導(dǎo)體光刻設(shè)備,精密測(cè)量和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域中具有不可替代的作用。
2.重復(fù)定位精度高,俯仰偏擺角度小,運(yùn)動(dòng)臺(tái)與導(dǎo)軌使用同種材料,在溫度變化較大的工況下不會(huì)出現(xiàn)氣 浮臺(tái)常見(jiàn)的“抱死”現(xiàn)象。
特點(diǎn):
通過(guò)靜壓氣浮隔離機(jī)械運(yùn)動(dòng)副之間的接觸,提高平臺(tái)機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)精度、表面平滑、微小偏差(俯仰, 偏擺等)、性能穩(wěn)定、沒(méi)有機(jī)械損耗、“零”摩擦可使其進(jìn)入納米級(jí)應(yīng)用。
使用場(chǎng)所:
精密加工、精密測(cè)量、微電子制造業(yè)、光刻機(jī)平臺(tái)、半導(dǎo)體加工業(yè)、掃描。