納米氧化鋅分散機,氧化鋅分散機,納米氧化鋅研磨分散機,高剪切分散機,納米分散機,研磨式分散機
納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品,使其在陶瓷、化工、電子、光學、生物、醫藥等許多領域有重要的應用價值,具有普通氧化鋅所無法比較的特殊性和用途。
納米級粉末的分散,普遍會出現物料團聚的現象,導致粒徑變大。SGN研磨式分散機,將膠體磨和分散機一體化結合,先研磨后分散機,解決團聚問題!
納米氧化鋅分散機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
技術及價格請來電:孫 , 公司有樣機可供客戶購前實驗, 歡迎廣大客戶來我司參觀指導! |
GMD2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。
4.本表的數據因技術改動,定制而不符,正確的參數以提供的實物為準.