產品特色:
1.涂布速度快、精度高、濕厚均勻;
2.涂布系統封閉,在涂布過程中能防止污染物進入,
3.漿料利用率高、能夠保持漿料性質穩定,可同時進行多層涂布
4.適應性強,能適應不同漿料粘度和固含量范圍速度同步。
優勢
可涂不同粘度的各種材料
涂層厚度從20納米到150微米以上
良好的涂層稠度:通常優于±3%
高效/材料利用率:材料利用率可達95%
可滿足不同需求:從研發到小批量試產、量產
該工藝具有較高的可靠性和魯棒性,收率可達95%。
適用于S2S和R2R處理模式
矩形陣列的鍍膜工藝可以在一個工藝周期內實現
工藝參數
涂層間隙控制:高精度、動態控制涂布頭高度(Z軸)
模具運動控制:精確控制模具運動軌跡(包括加速和減速參數)在涂層方向(X軸)
模具設計:高稠度、化學相容性、低充模量、涂條的模具設計與制造
涂層控制:涂層速率(穩定涂層)和涂層輪廓(前后邊緣)的高精度數字控制
控制軟件:所有配方參數、數據監控與反饋控制、數據采集與分析。