本款產(chǎn)品專為有高溫微流變表征的用戶設計，溫度上限可達180℃。有研究人員利用傳統(tǒng)技術測試高溫流變時需要利用時-溫疊加的方法間接推算，而本產(chǎn)品允許用戶利用基于動態(tài)光散射原理的擴散波譜技術直接在不高于180℃的條件下直接測試樣品的微流變性能。
儀器相關配置參數(shù)如下：
※ 背散射和前散射兩種模式，提供完整的DWS解決方案，通過電子快門系統(tǒng)實現(xiàn)兩種模式轉換；
※ 軟件功能強大，用以數(shù)據(jù)采集和分析，結合單多斑測量，用戶可自定義多腳本運行，進行在線微流變分析，可以得到粘彈模量、均方位移、平均光子自由程、蠕變?nèi)崃俊p耗角正切和平均粒徑；
※ 自動測量得到平均光子自由程l*和吸收長度la。
※ 半導體激光光源，685nm，40mW，噪音小于0.5%，單模TEM00，相干長度＞1m，預熱時間15分鐘，激光路徑處于密閉空間，安全等級為1級（根據(jù)EN 60825-1/11.01標準）；
※ 兩個高檢測效率的單光子計數(shù)檢測器，量子效率＞65% @ 685nm，標準死時間20ns；
※ 雙通道快速多tau/線性相關器，最小采樣時間12.5ns；
※ 測試溫度范圍（4℃ - 180℃），在實驗室溫度不高于23℃時溫控精度+/-0.02℃，露點以下測量時需接干燥空氣吹掃，RheoLab提供接口；
※ 儲存模量G'和損耗模量G"測量范圍1Hz-10MHz，彈性范圍：1Pa-50kPa；
※ 可測試1mPas以上的低粘度樣品；
※ 樣品池支架光程范圍1-10mm，可使用標準的光學池，使用1mm樣品池時樣品需求量降至150μL；
※ 儀器無需光學平臺，操作保養(yǎng)更加簡捷。

產(chǎn)品功能：
DWS RheoLab HT高溫型擴散波譜儀采用了背散射和前散射技術，能夠在高溫條件下分析軟物質(zhì)的微流變以及超濃懸浮液的平均粒徑。
包括背散射和前向散射完整的DWS方法，采用雙池回波技術（EP 1720000 A1）的，用于非遍歷性樣品表征；利用回波技術，幾分鐘內(nèi)得到儲存模量G'和損耗模量G"，頻率上限可達10M Hz ；適用于＞1%的樣品濃度（和粒徑有關），透明樣品需加入示蹤粒子；可以測量穩(wěn)定性，老化性以及凝膠點等。

使用背散射技術測量平均粒徑，測量范圍：50nm-1μm；適用于顆粒濃度20%以下的牛頓流體體系，能獲得多分散性樣品的平均粒徑。

相關耗材：
1mm、2mm、5mm、10mm四種規(guī)格的樣品瓶；PS示蹤粒子；二氧化硅示蹤粒子。（需訂貨）