美國SIMCO-ION Ion-O-Vac 除塵潔凈系統基于Neutro-Vac 技術上針對卷材產線在材料與滾輪之間的物料表面進行潔凈設計.特別是當接觸超過30°的情況下，這套設計對清潔物料表面粘度較大污染物的潔凈效果更加明顯，清潔能力小至20μｍ的粉塵雜質。
Mark I型除塵系統包括真空槽前后的毛刷和靜電中和棒。灰塵和污垢的清除提高了生產效率，降低了產品質量缺陷的發生率。
系統通常安裝在材料與滾筒表面接觸超過30度的地方。這將使高壓真空的清洗效果。收集器的位置必須靠近除塵頭。
Mark IV型除塵系統利用旋轉刷的力量擦洗材料表面，清洗至15微米。Mark IV除塵系統適用于堅硬材料表面的灰塵處理。
美國SIMCO-ION Ion-O-Vac 除塵潔凈系統 特點
單面或雙面網清潔
接觸式和非接觸式配置
包括支架和風管
進行調整以將遮光罩定位在基材上
刷子可滑入和滑出，易于更換
優點
帶筒式過濾器的罐式收集器
預過濾器和電動機啟動器
帶旋轉刷的離子型O-Vac罩，驅動電機和速度控制，靜電消除器和支架
系統可以配置為清潔材料的一側或兩側
可選的氣動回縮系統，用于升高和降低發動機罩
"微米" 注釋
普通眼能看到的小尺寸的千分之一毫米.如下是我們常見以微米計算的參考物體：細菌-2 微米、牙粉-10 微米、擦洗粉-25 微米、頭發-70 微米、鹽粉-100 微米。
適用：功能薄膜、光學鍍膜、藥食&化飾包裝、標簽、印刷等行業。
