一、產(chǎn)品名稱:高純度氧化鋁粉研磨分散機(jī),氧化鋁粉高速分散機(jī),高純氧化鋁漿料分散機(jī),金屬氧化物研磨分散機(jī),化工研磨分散機(jī)
二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應(yīng)用
氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點(diǎn)。高純氧化鋁氧粉,又稱三氧化二鋁,分子量102,是一種白色無定形粉狀物,俗稱礬土。
高純氧化鋁的應(yīng)用:
一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于*陶瓷,4N主要應(yīng)用于熒光粉,5N應(yīng)用于藍(lán)寶石晶體、鋰電池隔膜、高級陶瓷等。
:應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
中端:應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈,藍(lán)寶石襯底,對純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
低端:集成電路基板、消費(fèi)電子,紫外固化涂料等方面的應(yīng)用,需要使用4N級別左右的高純超細(xì)氧化鋁,整體要求相對較低。
(洽談:1-5-0-2-1-9-8-5-9-1-7)
三、高純度氧化鋁粉的應(yīng)用工藝
主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中,然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無法滿足分散效果的要求,傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低,一般為3000rpm。而采用SGN高純度氧化鋁粉研磨分散機(jī),轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將膠體磨和分散機(jī)一體化,先研磨后分散,分散粒徑更小,粒徑分布更均勻。
四、SGN化工研磨分散機(jī)的優(yōu)勢
(洽談:1-5-0-2-1-9-8-5-9-1-7)
1、上海SGN研磨式分散機(jī)可以很好的解決這一問題,“膠體磨+分散機(jī)”的*結(jié)構(gòu),一級研磨模塊可以將團(tuán)聚體研磨打開,第二級分散模塊再瞬間對物料進(jìn)行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。
2、傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm,難以分散。而SGN研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,剪切速率高,可以充分的將石墨烯分散到涂料當(dāng)中。
3、SGN研磨分散機(jī)采用管線式分體式結(jié)構(gòu),物料從進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備工作腔中,進(jìn)行處理,然后再從出口打出,物料*得的剪切細(xì)化分散,產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實(shí)現(xiàn)在線式生產(chǎn),滿足大工業(yè)化生要求。
五、GMD2000系列選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |